Sistemi PLD
Sistemi PLD
La deposizione laser pulsata offre un metodo versatile ed efficace per depositare film sottili con un controllo preciso su composizione, struttura e proprietà, rendendola una tecnica preziosa nella ricerca sui materiali e nella fabbricazione di dispositivi.
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La PLD prevede l’uso di un laser ad alta energia per ablare (vaporizzare) un materiale target in un vuoto o in un’atmosfera controllata.
Il materiale ablato viene poi depositato su un substrato posto di fronte al bersaglio. Il processo di ablazione laser genera un pennacchio di plasma composto da ioni e atomi del materiale target, che si condensa sul substrato formando un film sottile.
- Versatilità: La PLD può depositare un’ampia gamma di materiali, compresi composti complessi e strutture multistrato.
- Stechiometria controllata: La PLD consente un controllo preciso della composizione e della stechiometria dei film depositati.
- Film di alta qualità: I film PLD presentano elevata cristallinità e purezza.
KENOSISTEC accompagna il cliente nella scelta dello strumento PLD più appropriato per ogni singola applicazione. Inoltre, ogni sistema può essere dotato di un monitoraggio continuo come, ad esempio, un Reed, un interruttore a lamina, normalmente aperto, che si chiude in presenza di un campo magnetico.
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